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HD-Si12粉塵游離二氧化硅分析儀

粉塵游離二氧化硅分析儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復(fù)溫、自動過濾、自動清洗等功能，整個過程無需人員值守，實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

訪問次數(shù)：373    產(chǎn)品價格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-02-08

HD-Si12全自動游離二氧化硅前處理工作站

全自動游離二氧化硅前處理工作站依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復(fù)溫、自動過濾、自動清洗等功能，整個過程無需人員值守，實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

訪問次數(shù)：337    產(chǎn)品價格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-02-08

HD-Si12全自動游離二氧化硅前處理儀

全自動游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復(fù)溫、自動過濾、自動清洗等功能，整個過程無需人員值守，實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

訪問次數(shù)：361    產(chǎn)品價格：面議    廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家    更新日期：2025-02-08

HD-Si12游離二氧化硅前處理儀

游離二氧化硅前處理儀依據(jù)國家職業(yè)衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)《GBZ/T 192.4-2007工作場所空氣中粉塵測定 第4部分：游離二氧化硅含量》中規(guī)定的前處理步驟，自動完成添加焦磷酸、自動加熱攪拌、自動升溫、15分鐘消解過程準(zhǔn)確控溫在245℃-250℃、自動降溫、自動注水、自動復(fù)溫、自動過濾、自動清洗等功能，整個過程無需人員值守，實現(xiàn)了游離二氧化硅分離前處理的自動化。

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